Разработка технологических основ получения эпитаксиальных слоев нитрида галлия методом хлоридно-гидридной эпитаксии на подложках сапфира : автореф. дис. на соиск. уч. степ. к. т. н. : специальность 05.17.01 <Технология неорганических веществ>

Заглавие:Разработка технологических основ получения эпитаксиальных слоев нитрида галлия методом хлоридно-гидридной эпитаксии на подложках сапфира : автореф. дис. на соиск. уч. степ. к. т. н. : специальность 05.17.01 <Технология неорганических веществ>

Физическое описание:24 с.

Библиотечный фонд:Российская Национальная Библиотека

Полное библиографическое описание

Доступные права:

Просмотр:

• 100% от первой страницы документа

Печать:

• Произвольный отрывок, составляющий 25% документа