На главную

Исследование и оптимизация процесса реактивно-ионного травления углублений в кремнии для формирования мелкощелевой изоляции : автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук : специальность 05.27.06 <Технология и оборудование для пр-ва полупроводников, материалов и приборов электрон. техники>

Исследование и оптимизация процесса реактивно-ионного травления углублений в кремнии для формирования мелкощелевой изоляции : автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук : специальность 05.27.06 <Технология и оборудование для пр-ва полупроводников, материалов и приборов электрон. техники>

26 с.

Российская Национальная Библиотека

Полное библиографическое описание

  • 100% от первой страницы документа

  • Произвольный отрывок, составляющий 25% документа

  • Произвольный отрывок, составляющий 25% документа

Обложка
Открыть в мобильном приложении