Модификация физико-химических свойств поверхности эпитаксиальных пленок GaAs/Ge и GaAs/CaF2 ионной имплантацией и отжигом : Автореф. дис. на соиск. учен. степ. к.ф.-м.н. : Спец. 01.04.04

Заглавие:Модификация физико-химических свойств поверхности эпитаксиальных пленок GaAs/Ge и GaAs/CaF2 ионной имплантацией и отжигом : Автореф. дис. на соиск. учен. степ. к.ф.-м.н. : Спец. 01.04.04

Физическое описание:20 с.

Библиотечный фонд:Российская Национальная Библиотека

Полное библиографическое описание

Доступные права:

Просмотр:

• 100% от первой страницы документа

Печать:

• Произвольный отрывок, составляющий 25% документа