Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования : Автореф. дис. на соиск. учен. степ. к.ф.-м.н. : Спец. 05.27.01

Заглавие:Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования : Автореф. дис. на соиск. учен. степ. к.ф.-м.н. : Спец. 05.27.01

Физическое описание:22 с.

Библиотечный фонд:Российская Национальная Библиотека

Полное библиографическое описание

Доступные права:

Просмотр:

• 100% от первой страницы документа

Печать:

• Произвольный отрывок, составляющий 25% документа